IT 之家 2 月 1 日音讯，ASML 总裁兼首席实施官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上示意，该企业的首台第二代 0.55 ( High ) NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5200 行将以"早期器具"的身份运转发货，用于期间训导度考证。

▲ EXE:5000 系统

EXE:5200 是现存初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的变调款，把柄 Christophe Fouquet 的说法，该型号"更合适广泛量坐蓐"。而 EXE:5000 四肢初期版块主要用于 High NA EUV 光刻期间的竖立。

从 ASML 光刻系统的迭代限定来看，EXE:5200 瞻望将领有更高的晶圆糊涂量（IT 之家注：EXE:5000 为每小时 185 片以上），同期赞助更为淡雅的后 2nm 逻辑半导体工艺。

▲ NXE:3800E 系统

Christophe Fouquet 还提到体育游戏app平台，其 0.33 ( Low ) NA EUV 光刻机的最新式号 NXE:3800E 已在工场兑现每小时 220 片的策画晶圆糊涂量，较初期的 185 片进一步莳植，比前一代的 NXE:3600D 已跳跃 37.5%，充分推崇了结构变调带来的上风。